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无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了无机基团不对称修饰多阴离子形成的手性离子化合物及其制备方法与应用。所述的离子化合物分子式为[As2Fe6Mo22O85AsO2(OH)2] 15‑。所述制备方法采用砷酸二氢盐作为修饰基团打破了多金属氧酸盐化合物的对称性形成了全新的手性离子,开辟了一条全新的设计和合成手性多酸化合物的方法。本发明提供的不对称修饰多金属氧酸盐形成的手性离子化合物应用在催化光反应中,催化效率较高且有较好的稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN105000600B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明学院;

    申请/专利号CN201510385647.5

  • 申请日2015-07-04

  • 分类号B01J23/881(20060101);C01G49/00(20060101);

  • 代理机构53116 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业);

  • 代理人姜开侠;谢乔良

  • 地址 650214 云南省昆明市昆明经济技术开发区浦新路2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:45:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B01J23/881 授权公告日:20160824 终止日期:20190704 申请日:20150704

    专利权的终止

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2015-11-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01G49/00 申请日:20150704

    实质审查的生效

  • 2015-11-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 49/00 申请日:20150704

    实质审查的生效

  • 2015-10-28

    公开

    公开

  • 2015-10-28

    公开

    公开

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