一种掩模版及光刻机能量的监控系统

摘要

本实用新型提供了一种掩模版及光刻机能量的监控系统。其中，在掩模版上，具有至少一个掩模图形组，每个所述掩模图形组包括多个形状相同且尺寸不同的掩模图形，用于获取各个掩模图形在基板上得到相同尺寸的图形所对应的多组曝光能量，以得到多个掩模图形的掩模尺寸和多组曝光能量的对应关系，即可以通过掩模版上的多个形状相同且尺寸不同的掩模图形得到不同尺寸间的能量变化范围。从而，在将该掩模版应用于光刻机能量的监控系统中时，即可基于多个掩模图形的掩模尺寸和多组曝光能量的对应关系，通过测量装置自动判断出光刻机的实际能量是否发生偏移，操作便捷、快速，且大大降低了失误风险，有助于保证产品质量。