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掩膜板制作方法及掩膜板

机译:掩膜板制作方法及掩膜板

摘要

A manufacturing method of a mask, and a mask. The manufacturing method of a mask comprises: forming a first patterned photoresist layer; forming photoresist patterns (20, 30); forming an electroformed layer (40); and forming a mask. The mask is manufactured by the above manufacturing method. The manufacturing method of a mask and the mask can reduce an angle of an opening of the electroformed layer (40), increase a light-emitting area, enhance thickness uniformity of the electroformed layer (40), and allow the thickness of the electroformed layer (40) to be adjusted.
机译:掩模的制造方法以及掩模。掩模的制造方法包括:形成第一图案化光刻胶层;以及形成光致抗蚀剂图案(20、30);形成电铸层(40);并形成一个面具。通过上述制造方法来制造掩模。掩模和掩模的制造方法可以减小电铸层(40)的开口角度,增加发光面积,增强电铸层(40)的厚度均匀性,并允许电铸层的厚度。 (40)进行调整。

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