一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种用于浸蚀法的位错腐蚀装置，涉及位错密度测量技术领域。该位错腐蚀装置包括若干层由上至下依次平行排列的放置台，放置台可用于放置片状的晶体，所述放置台的中间设有贯通的第一流通孔，第一流通孔用于供腐蚀液流通并腐蚀晶体表面的位错。该位错腐蚀装置放置于盛有腐蚀液的器皿中，通过在放置台上放置晶体，便于对晶体进行腐蚀，结构独特，通过第一流通孔保证晶体下方的腐蚀液流通，可放置多片晶体进行同时腐蚀，节约腐蚀时间和腐蚀液，相比现有技术采用塑料网导致塑料网内的晶体容易发生倾斜，晶体的下表面接触塑料网导致腐蚀不充分等问题，本申请位错腐蚀装置，晶体放置于放置台上不易倾斜，接触面积小，腐蚀充分。