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一种双衬底气化芯片

摘要

本实用新型公开了一种双衬底气化芯片,包括:基础衬底和硅衬底,基础衬底上设置有自顶面向内凹陷形成的空腔,待气化液体设置在空腔内,空腔的底面上设置有液态源通道,基础衬底的顶面上设置有接触电极板,硅衬底底部设置有加热电极板,加热电极板通过键合金属层与接触电极板电连接,硅衬底上设置有第一气化通道结构,第一气化通道结构包括阵列排布的若干个第一气化通道单元,第一气化通道单元连通至空腔。本实用新型相较于现有技术,将陶瓷衬底或玻璃衬底与硅衬底组合形成双衬底结构,气化芯片上气化孔的孔径均匀,将气化芯片的加热区域和外围固定结构进行热隔离,降低热导,提升电加热气化效率。

著录项

  • 公开/公告号CN215798500U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美满芯盛(杭州)微电子有限公司;

    申请/专利号CN202121707983.4

  • 发明设计人 王敏锐;俞挺;

    申请日2021-07-26

  • 分类号B81B1/00(20060101);A61M11/00(20060101);

  • 代理机构32359 苏州瑞光知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人罗磊

  • 地址 311231 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区桥南春晖路1号-8(自主分割)

  • 入库时间 2022-08-23 04:45:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-11

    授权

    实用新型专利权授予

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