公开/公告号CN215700778U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 长江存储科技有限责任公司;
申请/专利号CN202121785670.0
发明设计人 邬良;
申请日2021-08-02
分类号B24B37/20(20120101);B24B37/27(20120101);B24B37/34(20120101);
代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;
代理人高洁;张颖玲
地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
入库时间 2022-08-23 04:31:23
机译: 回收方式以及用于回收包含半导体处理工艺特别是化学机械研磨工艺中的浆料的废液的装置
机译: 用于化学-机械抛光设备的保持环以及因此用于化学-机械抛光设备的保持环
机译: 电光显示装置用基板的制造方法所具备的用于研磨由铜或铜合金构成的配线层的化学机械研磨用水分散液以及该化学机械研磨用水分散液的化学机械研磨方法