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一种预防足跟压力性损伤的防足下垂的装置

摘要

本实用新型属于康复治疗技术领域,且公开了一种预防足跟压力性损伤的防足下垂的装置,包括垫圈,所述垫圈的上部固定连接有固定扣环,所述固定扣环的前端活动卡接有转动环,所述转动环的内侧活动套接有限位壳,所述限位壳的内部活动套接有转轴。本实用新型通过设置有垫圈、固定扣环、转动环和限位壳等结构可以实现可调节的功能通过设置有固定扣环,可以选择卡接和松开转动环,从而限定转动环的转动进而使得约束带、足筒和垫圈形成一个整体结构,综上所述,通过以上结构之间的配合,使得该装置可以调节病人足部和小腿的夹角值,从而根据病人的病情程度进行适配具有可调节的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN215651827U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 任华;

    申请/专利号CN202122140295.0

  • 发明设计人 任华;

    申请日2021-09-06

  • 分类号A61F5/01(20060101);

  • 代理机构11403 北京风雅颂专利代理有限公司;

  • 代理人曾志鹏

  • 地址 410000 湖南省长沙市湘雅路87号

  • 入库时间 2022-08-23 04:24:23

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