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一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件

摘要

本实用新型提出的一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件,涉及蒸镀掩膜领域。该支撑掩膜版上具有若干上下贯通的蒸镀孔,蒸镀孔呈矩形阵列的形式排列;所述的蒸镀孔的上口处设置有凹槽,该凹槽从蒸镀孔的上口边缘向蒸镀孔的外围扩展;凹槽的宽度为d1,蒸镀孔的上口宽度为d2,1mm≤d1‑d2≤3mm。所述的支撑掩膜组件包括上述支撑掩膜版和掩膜框架,支撑掩膜版设置在掩膜框架的上侧。所述的蒸镀掩膜部件包括上述的支撑掩膜组件和精细金属掩膜版,精细金属掩膜版设置在支撑掩膜版的上侧。本实用新型用于蒸镀时,能够避免在显示装置的显示区域边缘产生“混色”缺陷,有利于提高显示装置的蒸镀产出良率。

著录项

  • 公开/公告号CN215593170U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 常州高光半导体材料有限公司;

    申请/专利号CN202122224788.2

  • 发明设计人 钱超;杨柯;吴建;

    申请日2021-09-14

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/24(20060101);

  • 代理机构32224 南京纵横知识产权代理有限公司;

  • 代理人董成

  • 地址 213311 江苏省常州市溧阳市埭头镇渡头街8-2号13幢

  • 入库时间 2022-08-23 04:09:04

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