一种大型TFT-LCD光掩膜基版用高精度旋涂机

摘要

本实用新型公开了一种大型TFT‑LCD光掩膜基版用高精度旋涂机，包括机架、顶针组件、紧固圈、压块以及电磁力控制装置，顶针组件呈可活动地安装于机架上，电磁力控制装置安装于顶针组件的下方以用于将顶针组件朝机架的下方进行吸拉，压块位于电磁力控制装置的上方并开设有供顶针组件的顶针穿过用的安装孔，紧固圈安装于安装孔内以对位于该紧固圈上方的区域进行密封。本实用新型可以通过紧固圈对顶针进行紧固密封，可以防止相对运动的气流，防止对流现象，以达到涂胶的高均匀性；与此同时，本实用新型还通过电磁力控制装置克服了顶针组件下降力不足的问题，从而改善了以往设备中四个角落处的均匀性较差的现象。