硅各向异性腐蚀掩膜版的高效率高精度设计

摘要

采用[100]晶向硅在KOH：H2O中的两步各向异性腐蚀制作各种微光学结构。此方法的关键步骤是掩膜版图的设计，根据要得到的期望的轮廓，通过计算机编程实现一组算法设计版图，并在设定一系列参数后，可以仿真得出最终腐蚀出来的轮廓。根据计算机得出的版图数据制作光刻掩膜版，然后通过单步光刻和两步湿法腐蚀制作最初期望得到的轮廓。利用此方法可以高效快速的设计版图，并通过后续工序，制作各种非球面、不规则的微光学结构。