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一种高口径利用率超大型静区的紧缩场装置

摘要

本实用新型公开了一种高口径利用率超大型静区的紧缩场装置,包括紧缩场反射面、馈源以及平面波静区;所述的馈源为紧缩场装置的电磁波辐射源;采用对角馈布局,紧缩场反射面的顶点在口径对角线接近的位置,馈源相心与反射面焦点共点位于反射面的虚旋转对称轴上;所述的紧缩场反射面为二次曲面结构,中心实体为旋转抛物面部分,用于将馈源辐射的球面波在静区内校正为平面波;所述的平面波静区为馈源辐射的电磁波经反射面校正后满足远场测试要求的有限立体空间区域。

著录项

  • 公开/公告号CN215575630U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京航空航天大学;

    申请/专利号CN202121277493.5

  • 发明设计人 李志平;何国瑜;武建华;王正鹏;

    申请日2021-06-07

  • 分类号G01S7/40(20060101);G01R29/10(20060101);

  • 代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人张乾桢;江亚平

  • 地址 100191 北京市海淀区学院路37号

  • 入库时间 2022-08-23 03:59:43

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