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公开/公告号CN215581941U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-18
原文格式PDF
申请/专利权人 昆山鼎鑫电子有限公司;
申请/专利号CN202121131916.2
发明设计人 崔红宇;罗政;张明敬;张俊;周厚刚;
申请日2021-05-25
分类号H05K3/18(20060101);
代理机构32366 苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人周子轶
地址 215000 江苏省苏州市昆山市玉山镇城北萧林路168号
入库时间 2022-08-23 03:58:37
机译: 球形金属帕替林用作雷射刻痕剂或雷射刻痕剂和雷射刻痕剂和/或雷射刻痕剂塑料
机译: 一种改进的铁路线悬垂接触线的悬挂架和包含所述悬挂架的电力线
机译:勘误:“一种新颖的局部托卡马克等离子体的局部平衡模型” Plasmas 19,072520(2012)]
机译:评论“一种在尘土等离子体中寻找孤立波的新数学方法”。 Plasmas 5,3918,(1998)]
机译:对“关于“一种在尘土等离子体中寻找孤立波的新数学方法”的评论”的回应。 Plasmas 6,4392(1999)]
机译:反应性离子蚀刻非均匀深度光栅用于高级DFB雷射
机译:一种新的窒息(Prunus virginiana L.)遗传连锁图谱和对X病(Candidatus phytoplasma pruni)抗性的QTL定位
机译:B.P.F.C.C.C.®Bio-Plasma®具有纯生长因子(Bioplasma®)用于治疗持续的牙齿治疗牙齿的持续性巨大病变:一种新的治疗选择
机译:u201c评论了一种热磁化等离子体的等离子体磁化率张量的新推导,没有贝塞尔函数乘积的无限总和。 Plasmas 14,092103(2007)
机译:托卡马克和仿星器的等离子体诊断。 (Diagnostico de plasmas para tokamaks y stellarators)