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用于产生均匀磁场梯度的装置和磁测量装置

摘要

本实用新型涉及用于产生均匀磁场梯度的装置和磁测量装置。根据一实施例,一种用于产生均匀磁场梯度的装置可包括彼此相对设置的两个瓦片状导电条,每个瓦片状导电条沿长度方向笔直延伸,并且在与所述长度方向垂直的横截面内具有抛物线形状,所述两个瓦片状导电条设置为其凹陷侧彼此相对。通过优化所述抛物线形状,本实用新型的装置能产生均匀的磁场梯度,从而提高相关磁测量的精确度。

著录项

  • 公开/公告号CN215263982U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国计量科学研究院;

    申请/专利号CN202121009874.5

  • 发明设计人 陆俊;张志高;许志一;

    申请日2021-05-12

  • 分类号G01R33/385(20060101);

  • 代理机构11497 北京市正见永申律师事务所;

  • 代理人黄小临;冯玉清

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路18号

  • 入库时间 2022-08-23 03:32:20

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