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基于电致发光材料的纳米孔阵列结构

摘要

本实用新型提供一种基于电致发光材料的纳米孔阵列结构,该结构包括:电介质膜、若干个第一金属极化电极及若干个第二金属极化电极;电介质膜中形成有贯穿其的若干个纳米孔,每个纳米孔的周侧对称设置有电致发光材料层;若干个第一、第二金属极化电极分别设置于电介质膜的正反两面,且一个第一金属极化电极及一个第二金属极化电极对应设置于一个纳米孔两端的周侧,同时第一金属极化电极及第二金属极化电极设置于电致发光材料层所在区域的上方和下方。通过使用电致发光材料层以及与纳米孔和第一、第二金属极化电极配合实现对测序单链的识别和测序,替代了现有的离子电流的检测方式,不需要放大电路,可有效降低成本,提高芯片面积的利用率,增加纳米孔的密度。

著录项

  • 公开/公告号CN215050353U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海近观科技有限责任公司;

    申请/专利号CN202120632589.2

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2021-03-29

  • 分类号C12M1/42(20060101);C12M1/34(20060101);C12M1/00(20060101);C12Q1/6869(20180101);

  • 代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人贺妮妮

  • 地址 201800 上海市嘉定区环城路2222号1幢J

  • 入库时间 2022-08-23 02:58:35

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