公开/公告号CN215376082U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;
申请/专利号CN202120837583.9
申请日2021-04-22
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人董莘
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 02:36:19
机译: 包括安装在辐射束路径中的束修改设备的光刻设备以及用于在同一束中修改辐射束的方法
机译: 带电粒子束辐射器,用于这种设备的能量补偿器以及用带电粒子束辐射物体的方法
机译: 侵入性仪器中的辐射的导电区域,用于在导电体辐射仪器中引导辐射束的装置和过程。沿预定路径和预定穿透角穿透地下目标的设备以及对准光束的过程以及沿着侵入性器械的预定路径提供准确的引导。