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具有带改进耦合比的浮栅和耦合栅的非易失性存储器单元

摘要

一种非易失性存储器单元包括具有顶面的第一导电类型的半导体衬底;所述衬底中沿所述顶面的第二导电类型的第一区域;所述衬底中沿所述顶面的所述第二导电类型的第二区域,与所述第一区域间隔开;所述第一区域与所述第二区域之间的沟道区;字线栅,定位在所述沟道区的第一部分之上,与所述第一区域紧邻;定位在所述沟道区的另一部分之上的浮栅,所述浮栅具有非平坦轮廓上表面;定位在所述浮栅的上表面之上并且通过第三绝缘层与其绝缘的耦合栅;以及定位成与所述浮栅的第二侧壁相邻的擦除栅。

著录项

  • 公开/公告号CN102969346B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅存储技术公司;

    申请/专利号CN201110289174.0

  • 申请日2011-08-31

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人俞华梁

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:44:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-10

    授权

    授权

  • 2013-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/423 申请日:20110831

    实质审查的生效

  • 2013-03-13

    公开

    公开

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