退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN213750494U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-07-20
原文格式PDF
申请/专利权人 蔡汉荣;
申请/专利号CN202023007107.9
发明设计人 蔡汉荣;
申请日2020-12-15
分类号G02B27/00(20060101);G02B27/09(20060101);
代理机构44722 深圳砾智知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人翁治林
地址 518000 广东省深圳市罗湖区布心路1012号布心花园二区1栋203
入库时间 2022-08-22 23:02:17
机译: 用于在光敏层上成像反射掩模的微光刻极紫外(EUV)投影曝光设备,具有适合于反射式开关元件以发射投影和加热光线的驱动元件
机译: 具有改进的检测和显示功能的投影辐射成像设备,一种制造辐射成像设备的方法以及一种辐射成像面板
机译: 成像反射式EUV投影光学单元
机译:SXRD(硅X-tal反射式显示器);一种用于投影显示的新显示设备
机译:静脉成像:一种近红外成像的新方法,其中将经过处理的图像投影到皮肤上以增强静脉治疗。
机译:投影和图像域的主成分分析 - 光子计数CT中的另一种形式的光谱成像
机译:MIMMI的演变:一种基于有机光刻胶的金属表面成像的新型表面成像抗蚀剂
机译:在鞋底在多个基材上产生的二维灰尘印象中使用反射式紫外线成像系统(RUVIS)。
机译:一种软阈值滤波方法用于从有限数量的具有双边边缘保留的投影中重建层析成像
机译:一种快速的3-D超声投影成像方法,用于脊柱侧凸评估
机译:分析和提高反射式幽灵成像的图像质量