公开/公告号CN212989873U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-04-16
原文格式PDF
申请/专利权人 上海禾本电子科技有限公司;
申请/专利号CN202022504604.3
发明设计人 校微娜;
申请日2020-11-03
分类号G03F1/84(20120101);B25J15/06(20060101);
代理机构
代理人
地址 200030 上海市徐汇区虹梅路2071号1幢3层305室
入库时间 2022-08-22 20:53:43
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-18
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/84 专利号:ZL2020225046043 申请日:20201103 授权公告日:20210416
专利权的终止
机译: 用于x射线光刻的SiC膜,x射线光刻的生产方式和掩膜版
机译: 掩膜版划分方法,掩膜版划分装置和掩膜版划分程序
机译: 光刻印刷版支持,制造光刻印刷版支持的方法以及原始版用于光刻印刷版