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公开/公告号CN212674779U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-03-09
原文格式PDF
申请/专利权人 哈尔滨工业大学;
申请/专利号CN202021039498.X
发明设计人 洪光辉;王晴晴;崔喜平;杨磊;
申请日2020-06-08
分类号G01N21/73(20060101);
代理机构23109 哈尔滨市松花江专利商标事务所;
代理人牟永林
地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
入库时间 2022-08-22 20:04:16
机译: 光谱仪进样系统
机译: 低保留预柱:一种简单的方法,可实现更大的进样量并减少HPLC中的柱外影响
机译: 低保留预柱:一种直接方法,可实现更大的进样量并减少HPLC中的柱外效应
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机译:评估一种新型PTFE材料,该材料可用于分离和预富集顺序进样(SI)和顺序进样阀实验室(SI-LOV)系统中痕量金属离子的方法,检测b时测定镉(II)
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