公开/公告号CN212623563U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 芯米(厦门)半导体设备有限公司;
申请/专利号CN202021133406.4
发明设计人 许志雄;
申请日2020-06-18
分类号G03F7/16(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构35227 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人吴圳添
地址 361000 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301
入库时间 2022-08-22 19:52:21
机译: 在重显影剂基础上,在重氮基苯甲酸酯类聚酰胺上,在碱性显影液中具有减少了loesungsgrad的光阻剂zusammensetzungen。
机译: 涂布显影设备,复合设备以及涂布显影设备中的处理方法
机译: 具有阻光层的图像传感器设备和制造具有阻光层的图像传感器设备的方法