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用于光阻涂布显影设备的散热装置及光阻涂布显影设备

摘要

本实用新型公开了一种用于光阻涂布显影设备的散热装置,该散热装置包括第一散热板、第二散热板及连接架,所述第一散热板、连接架、第二散热板由上至下依次叠装连接,所述连接架中空,以使第一散热板和第二散热板之间形成一空腔,从而让第一散热板和第二散热板相互传递温度的能力减弱,以达到散热效果最佳;该散热装置夹设于光阻涂布显影设备的第一机械臂和第二机械臂的中间,起到隔温、散热的作用,有效调节第一机械臂和第二机械臂之间不窜温,将冷腔和热腔温控系统延伸至机械手臂和半导体晶圆上,大大改良了晶圆的处理工艺,有效提高了半导体的生产稳定性和产品良率。

著录项

  • 公开/公告号CN212623563U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-02-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 芯米(厦门)半导体设备有限公司;

    申请/专利号CN202021133406.4

  • 发明设计人 许志雄;

    申请日2020-06-18

  • 分类号G03F7/16(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构35227 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴圳添

  • 地址 361000 福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301

  • 入库时间 2022-08-22 19:52:21

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