公开/公告号CN212207416U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-12-22
原文格式PDF
申请/专利权人 中科廊坊过程工程研究院;中国科学院过程工程研究所;
申请/专利号CN202020261338.3
申请日2020-03-05
分类号G01N35/10(20060101);G01N21/25(20060101);G01N31/16(20060101);G01N30/96(20060101);G01N30/02(20060101);G01N27/62(20060101);G01N15/14(20060101);G01N1/38(20060101);
代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;
代理人巩克栋
地址 065001 河北省廊坊市廊坊开发区科技谷凤华道1号
入库时间 2022-08-22 18:41:57
机译: 正型光致抗蚀剂用四甲基氢氧化铵和三甲基羟乙基氢氧化铵的显影液
机译: 由四氯硅烷-三甲基氯硅烷硅烷共沸物生产电子级四乙氧基硅烷的方法
机译: 于从三氯硅烷-三甲基氯硅烷共沸物中分离三甲基氯硅烷的制备电子级四乙基乙氧基硅烷和乙基硅酸盐的方法