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一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板及其制作方法

摘要

本发明提供一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板,该印制电路板上设有anti‑CAF(耐导电阳离子迁移)性能测试图形,anti‑CAF性能测试图形包括若干两两相隔的槽型孔。通过于anti‑CAF性能测试图形上开设有两两相隔的槽型孔以代替目前开设的钻孔,其中,槽型孔的开设较钻孔的开设对材料本身造成的损伤小,即为槽型孔加工时可较好地避免损伤印制电路板的玻纤布,故,当进行去污清洗时,其不会像钻孔那样极易形成较大的晕圈,并因玻纤布的损伤而产生严重的毛细作用,从而使到有效的孔间距变长,进一步提升印制电路板的anti‑CAF能力。本案还提供一种测试耐电化学迁移性能的印制电路板的制作方法。

著录项

  • 公开/公告号CN103118485B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东生益科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201310030804.1

  • 发明设计人 俞中烨;

    申请日2013-01-25

  • 分类号

  • 代理机构北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人胡彬

  • 地址 523808 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业西路5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:43:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-03

    授权

    授权

  • 2013-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05K 1/02 申请日:20130125

    实质审查的生效

  • 2013-05-22

    公开

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