法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C12M 3/00 专利号:ZL2020200922325 申请日:20200116 授权公告日:20201103
专利权的终止
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 制备部分单次电子束曝光掩模的方法和通过使用部分一次电子束曝光掩模的直接写入图案的方法