公开/公告号CN211700194U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-10-16
原文格式PDF
申请/专利权人 河南省三石精密光学有限公司;
申请/专利号CN202020800489.1
申请日2020-05-14
分类号H01L21/02(20060101);H01L23/29(20060101);
代理机构
代理人
地址 476000 河南省商丘市宁陵县小吕集村东头03号
入库时间 2022-08-22 17:19:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-05-26
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/02 专利号:ZL2020208004891 申请日:20200514 授权公告日:20201016
专利权的终止
机译: 半导体晶圆加工研磨,一种电子元件的组装方法,包括处理晶圆,直到晶圆比转子板薄,厚度比层厚为止,并在晶圆上排上凹口以保护晶圆
机译: 晶圆运输系统,使用该晶圆运输工厂的半导体制造厂结构以及一种晶圆运输方法,能够最大程度地提高集成度
机译: 装置和一种方法,通过敷抹Meniscus敷设半导体晶圆