首页> 中国专利> 一种半导体晶圆镀膜技术

一种半导体晶圆镀膜技术

摘要

本实用新型提供一种半导体晶圆镀膜技术,涉及半导体晶圆技术领域。该半导体晶圆镀膜技术,包括晶圆本体,所述晶圆本体的顶面由下到上依次设有二氧化硅膜、电阻膜、碳膜、ITO镀膜、透光膜、防水膜和抗污膜。该半导体晶圆镀膜技术,通过设置透光膜、防水膜和抗污膜,将透光膜提升晶圆本体的透光率,将防水膜提升晶圆本体的防水性能,将抗污膜提升晶圆本体的抗油污腐蚀污染性能,解决了传统的晶圆在进行二氧化硅镀膜后其外表面硬度低,并且耐脏污性能差,不能满足需求的问题,通过设置固定框,对晶圆本体进行固定,便于晶圆本体进行封装处理,通过设置氧化铟锡,提升电阻率和透光率,通过设置氟化物,提升晶圆本体的抗氧化和抗老化性能。

著录项

  • 公开/公告号CN211700194U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河南省三石精密光学有限公司;

    申请/专利号CN202020800489.1

  • 发明设计人 张磊;张松;郭锐;

    申请日2020-05-14

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L23/29(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 476000 河南省商丘市宁陵县小吕集村东头03号

  • 入库时间 2022-08-22 17:19:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-26

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/02 专利号:ZL2020208004891 申请日:20200514 授权公告日:20201016

    专利权的终止

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号