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保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备

摘要

本实用新型提供了一种保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备。所述保持装置(5)包括具有与晶片载体(6)的齿条(10a)接触的刷子(14a,14b)的刷单元(13),其中:刷子(14a,14b)设计为条形刷子,刷子(14a,14b)具有无金属的刷毛(15);刷子(14a,14b)具有包含塑料优选包含聚丙烯的刷毛(15)。刷单元(13)具有可枢转地安装的刷子保持器(16),刷子(14a,14b)被安装在该刷子保持器上。

著录项

  • 公开/公告号CN211700199U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 雷纳技术有限责任公司;

    申请/专利号CN201921676611.2

  • 发明设计人 尼尔斯·卡斯腾森;

    申请日2019-10-02

  • 分类号H01L21/67(20060101);H01L21/673(20060101);H01L21/683(20060101);F26B5/00(20060101);

  • 代理机构11324 北京金恒联合知识产权代理事务所;

  • 代理人李强

  • 地址 德国古滕巴赫市78148高路街1号

  • 入库时间 2022-08-22 17:14:42

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