公开/公告号CN211700199U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-10-16
原文格式PDF
申请/专利权人 雷纳技术有限责任公司;
申请/专利号CN201921676611.2
发明设计人 尼尔斯·卡斯腾森;
申请日2019-10-02
分类号H01L21/67(20060101);H01L21/673(20060101);H01L21/683(20060101);F26B5/00(20060101);
代理机构11324 北京金恒联合知识产权代理事务所;
代理人李强
地址 德国古滕巴赫市78148高路街1号
入库时间 2022-08-22 17:14:42
机译: 晶片例如绝缘体半导体晶片上的有机硅,保持装置,具有形成的子载体,从而形成适配器晶片,该适配器晶片具有同心布置的保持块,用于对要处理的晶片进行形貌定位
机译: 保持装置用于在真空室中保持载体或组件,使用保持装置,用于在真空室中保持载体或组件,用于在真空室中处理载体的装置,以及真空沉积系统
机译: 用于保持衬底的保持装置,包括保持装置的载体,使用该载体的处理系统,用于保持衬底的方法以及用于从保持装置释放衬底的方法