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一种PECVD制程腔离子源扩散板上料装置

摘要

本实用新型公开了一种PECVD制程腔离子源扩散板上料装置,包括沉积箱腔体、推动装置和安装装置;使用时,启动转动电机带动转动盘进行转动使得转动杆进行转动,使得摆动杆进行摆动进而带动连接杆和推动杆对扩散板进行左右的推动,在将扩散板放置在下电极板放入两侧,有效地将离子化的气体向两侧扩散并均匀地向抽气口扩散,致使在两电极板中的等离子体也可均匀地向两侧扩散,增加等离子体面积,同时也增加薄膜沉积的面积,勿需将极板扩大的情况下,有效地增大等离子体沉积面积,对于装置的制造成本及节约能源有相当的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN211420307U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市鑫宝达光电有限公司;

    申请/专利号CN201922061964.8

  • 发明设计人 张佳宾;

    申请日2019-11-26

  • 分类号C23C16/50(20060101);C23C16/448(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 518100 广东省深圳市龙岗区龙岗街道南约社区南同大道2号(西段)3楼

  • 入库时间 2022-08-22 16:29:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C16/50 专利号:ZL2019220619648 申请日:20191126 授权公告日:20200904

    专利权的终止

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