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GGNMOS器件、多指GGNMOS器件及保护电路

摘要

本实用新型公开一种GGNMOS器件,包括衬底;形成于衬底中的源极和漏极,源极包括第一、第二源极,漏极位于第一、第二源极之间;形成于衬底上的栅极,栅极包括第一、第二和第三栅极;第三栅极包括沿第一方向延伸的第一、第二部,沿第二方向延伸的第三、第四部,第三、四部均位于第一、二部之间且两端分别连接第一、第二部,以将第一、二部之间的区域限定为第一区域、第二区域、位于第一、第二区域之间的第三区域;第一栅极位于第一区域,第一栅极在衬底上的正投影部分或全部围绕第一源极的正投影;第二栅极位于第二区域,第二栅极在衬底上的正投影部分或全部围绕第二源极的正投影。本实用新型还提供多指GGNMOS器件及ESD保护电路。

著录项

  • 公开/公告号CN211350658U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202020091178.2

  • 发明设计人 陈萧静;张薇;储小玲;朱恒宇;

    申请日2020-01-15

  • 分类号

  • 代理机构北京正理专利代理有限公司;

  • 代理人张雪梅

  • 地址 101111 北京市大兴区经济技术开发区科创十四街99号33幢D栋二层2192号

  • 入库时间 2022-08-22 16:14:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-25

    授权

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