半导体热处理设备的反应腔室及半导体热处理设备

摘要

本实用新型公开一种半导体热处理设备的反应腔室及半导体热处理设备，该反应腔室包括腔室外壁、歧管腔室、法兰压环，腔室外壁通过法兰压环与歧管腔室的上法兰固定连接，腔室外壁与上法兰之间还设有密封圈，法兰压环内设有第一冷却槽，用于冷却密封圈；上法兰内设有第二冷却槽，用于冷却密封圈。通过在第一冷却槽和第二冷却槽内循环通入冷却液介质，从而降低反应腔室外管与歧管上法兰之间的密封圈的表面温度，提高密封圈的使用寿命，保证反应腔室的密封效果。