公开/公告号CN211005576U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-07-14
原文格式PDF
申请/专利权人 洛阳奥尔材料科技有限公司;
申请/专利号CN201921871802.4
申请日2019-11-02
分类号
代理机构
代理人
地址 471000 河南省洛阳市涧西区浅井头一街坊7幢2-402室
入库时间 2022-08-22 15:15:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-14
授权
授权
机译: 一种通过在栅结构之前使用掩膜方案分别去除占位材料[虚拟材料]的方法来生产栅电极结构的方法
机译: 微机械零件加速度传感器,一种制造方法,涉及在蚀刻结构之后保持过度拉伸的金葱掩膜结构下形成牺牲层的沟槽,
机译: 薄膜结构,例如一种用于有源矩阵LCD的薄膜晶体管结构,是通过在蚀刻下面的层之前使光敏掩膜层在未完全蚀刻的层侧面上热流动来生产的