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一种真空镀膜的三次掩膜基片台结构

摘要

本实用新型涉及三次掩膜基片台技术领域,且公开了一种真空镀膜的三次掩膜基片台结构,包括掩膜箱,所述掩膜箱的顶部固定安装固定板,所述固定板顶部铆接有定位筒,所述固定板上开设有与掩膜箱内部相连通的开口槽,所述定位筒通过开口槽与掩膜箱的内部连通。本实用新型,通过拉动旋转把手,把定位块带入定位槽内,然后通过手动转动旋转把手可带动掩膜板转动,从而可控制掩膜板的角度和形状,然后通过定位销对基片架和掩膜板进行固定,即可获取三此掩膜,通过在基片台内部开设调节腔,且调节构件上套设有固定连接的阻尼块,可对调节构件起到保持稳定的作用,从而使装置打动够稳定的增加掩膜次数真空镀膜的三次掩膜基片台结构。

著录项

  • 公开/公告号CN211005576U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-07-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 洛阳奥尔材料科技有限公司;

    申请/专利号CN201921871802.4

  • 发明设计人 邹杨;孙蕾;邹松东;

    申请日2019-11-02

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 471000 河南省洛阳市涧西区浅井头一街坊7幢2-402室

  • 入库时间 2022-08-22 15:15:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-14

    授权

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