一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置

摘要

本实用新型涉及离子溅射装置技术领域，尤其是一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体，所述溅射装置主体的顶部设有底盘，所述底盘的上部罩设有罩体，所述罩体和底盘内设有样品架，所述罩体的外部连接有多个滑块，其中一个所述滑块内贯穿有限位杆，所述限位杆的上端螺纹安装有锁定螺母，所述限位杆穿过滑块和U形的定位板且下端的侧壁上环绕有多个限位块，所述定位板上设有与限位块形状匹配的限位孔，所述限位孔与限位块相互错开，所述定位板与溅射装置主体的顶部固定连接，其余的所述滑块上均贯穿有与之滑动连接的滑杆，所述滑杆的下端与溅射装置主体的顶部垂直连接。本实用新型方便对样品进行取放，且结构稳定。