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公开/公告号CN210570515U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-05-19
原文格式PDF
申请/专利权人 咸阳师范学院;
申请/专利号CN201922117598.3
发明设计人 周贤明;尉静;
申请日2019-11-29
分类号
代理机构郑州豫原知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人李天丽
地址 712000 陕西省咸阳市渭城区文林路东段
入库时间 2022-08-22 14:04:03
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-19
授权
机译: 具有金属膜,溅射,真空沉积或离子镀膜设备的医学或食品产品,用于生产相同的医学或食品
机译: 在真空沉积设备中的光学常数和膜厚的测量方法和测量装置
机译: 能够精确测量膜厚的真空沉积设备
机译:Y离子注入镍合金表面对VSDP-11真空等离子镀膜组成和结构的影响
机译:真空等离子体喷涂工艺通过真空等离子体喷涂工艺进行制备和特性,以保护C / C复合材料氧化
机译:室温处理的高迁移率W掺杂In 2 O 3电极,通过在线电弧等离子体离子镀膜涂覆,用于柔性OLED和量子点LED
机译:反应性低压离子镀等离子体辅助(RLVIPPA):光学镀膜的新观点
机译:燃烧MHD等离子体中电导率不均匀性和波动的测量。
机译:室温处理的高迁移率掺W的In2O3电极通过在线电弧等离子体离子镀膜涂覆用于柔性OLED和量子点LED
机译:真空离子镀膜设备
机译:真空镀膜硒膜的光电导率。