公开/公告号CN210261974U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-04-07
原文格式PDF
申请/专利权人 张家港恩达通讯科技有限公司;
申请/专利号CN201920988964.X
申请日2019-06-27
分类号
代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司;
代理人唐岩
地址 215614 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰科创园E栋,恩达通讯
入库时间 2022-08-22 13:07:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-07
授权
授权
机译: 化学气相沉积的支持者,能够防止因不均匀加热而生长半导体的物质,一种化学气相沉积设备,以及一种使用化学气相沉积设备的加热方法
机译: 金属有机化学气相沉积设备,可自动控制排气管线的气体流速
机译: 金属有机化学气相沉积设备,可自动控制排气管线的气体流速