一种真空处理腔室的射频脉冲功率匹配的方法及其装置

摘要

本发明提供一种真空处理腔室的射频脉冲功率匹配的方法及其装置，包括以下步骤：预设第一射频脉冲信号发生器中的第一反射功率标准值和第二射频脉冲信号发生器中的反射功率标准值；采用自学习循环方式来搜索最小反射功率对应的第一射频频率和第二射频频率，本发明的真空处理腔室的射频脉冲功率匹配的方法及其装置通过自动调节射频脉冲频率，采用自学习循环方式，并且针对小范围精确扫频，获得射频功率的反馈，来搜索最小反射射频功率，本发明的实现的成本低廉，不需要增加过多的设备成本，而且，不存在一定时延，在此段时间内负载得到的功率可控，不会影响刻蚀工艺进行。