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一种光整加工深沟键槽内表面的磁粒研磨装置

摘要

本实用新型涉及一种光整加工深沟键槽内表面的磁粒研磨装置,包括十字滑轨工作台及研磨机构,所述十字滑轨工作台水平设置,工件固定在十字滑轨工作台上并且能够沿水平的X轴和Y轴方向移动;十字滑轨工作台的上方设至少一个研磨机构,研磨机构在竖直的Z轴方向及水平的X轴方向的位置能够调整;研磨机构由研磨电机、筒夹及柱形磁极组成,研磨电机的输出轴竖直向下伸出,柱形磁极通过筒夹与研磨电机的输出轴固定连接并能够随之旋转。本实用新型能够实现较深槽及两端封闭槽的内表面的光整加工,其结构简单,操作方便,可调节性强,加工精度高,并且能够避免磨粒飞溅或破坏形状精度的情况发生。

著录项

  • 公开/公告号CN209811885U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 辽宁科技大学;

    申请/专利号CN201920328261.4

  • 申请日2019-03-15

  • 分类号

  • 代理机构鞍山嘉讯科技专利事务所(普通合伙);

  • 代理人张群

  • 地址 114044 辽宁省鞍山市高新区千山路185号

  • 入库时间 2022-08-22 11:50:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-20

    授权

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