一种电感耦合等离子体蚀刻设备

摘要

本实用新型提供一种电感耦合等离子体蚀刻设备，包括处理腔室；源线圈，通过支撑装置设置在电介质盖的上方，用于将射频能量感应耦合至处理腔室中以在处理腔室中产生并维持等离子；衬底支撑装置，用于支撑所述衬底；其中，线圈的支撑装置包括支撑基座以及设置在支撑基座上的至少一个绝缘支撑柱，绝缘支撑柱以相对于支撑基座径向可调的方式设置在所述支撑基座上；并且绝缘支撑柱包括沿延伸至处理腔室外部的调整部件，调整部件调节绝缘支撑柱相对支撑基座的径向位置。通过上述调整部件，无需拆卸蚀刻设备，在蚀刻设备的外部即可实现源线圈位置的调整，节省了调整时间，操作简单，大大缩短源线圈位置的调整时间，提高机台的利用率。