Plasma etching; Quantum well infrared photodetectors; Focal plane devices; Resonators; Quantum efficiency; Substrates; Product development; Technology assessment; Performance tests;
机译:先进的电感耦合等离子体刻蚀工艺,用于制造谐振腔量子阱红外光电探测器
机译:电感耦合等离子体刻蚀制备谐振腔量子阱红外光电探测器焦平面阵列
机译:电感耦合等离子体刻蚀和肖特基势垒二极管制造过程中Ge中的缺陷引入
机译:平面光波电路装置制造上的氟碳等离子体玻璃蚀刻工艺的电感耦合等离子体
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:使用各向同性电感耦合等离子体蚀刻的硅纳米尖端批量制造
机译:用于制造谐振器 - 量子阱红外光电探测器的先进电感耦合等离子体蚀刻工艺
机译:基于ICl和IBr的化学中的电感耦合等离子体蚀刻:第二部分。 Inp,Insb,InGap和InGaas;等离子体化学和等离子体处理