公开/公告号CN208917284U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 湖南玉丰真空科学技术有限公司;
申请/专利号CN201821223558.6
申请日2018-07-31
分类号
代理机构
代理人
地址 411100 湖南省湘潭市九华示范区大众东路2号
入库时间 2022-08-22 09:19:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-31
授权
授权
机译: 使用快门监测真空沉积膜的厚度的方法和真空沉积装置,其采用一种方法来容易地监测形成在真空腔室内的基质上的厚膜的厚度
机译: 一种在真空室内关闭真空的方法
机译: 一种用于在涂层或蚀刻系统的真空室中固定平坦的克雷伯恩·费尔默根基片的设备。