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球体零件的偏心研抛装置的下抛光机构

摘要

球体零件的偏心研装置的下研抛机构,包括操作台,操作台上设有研抛液回收槽,研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘与其下方的电机连接;下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内侧底部设有一圈锥齿,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有游星轮式保持架,游星轮式保持架与锥齿相啮合;游星轮式保持架上设有一组圆柱形通孔,圆柱形通孔直径比游星轮式保持架的厚度大。本实用新型可以大幅提高研抛工具的转速,提高研抛效率;同时运动轨迹可控,研磨作业均匀,球形零件的批一致性好。

著录项

  • 公开/公告号CN208811844U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州智谷精工有限公司;

    申请/专利号CN201821595199.7

  • 发明设计人 熬雪梅;袁巨龙;陈芝向;张万辉;

    申请日2018-09-25

  • 分类号

  • 代理机构北京中济纬天专利代理有限公司;

  • 代理人陈振华

  • 地址 311121 浙江省杭州市余杭区余杭街道文一西路1818-2号5幢206室

  • 入库时间 2022-08-22 09:01:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-03

    授权

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