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公开/公告号CN208679099U
专利类型实用新型
公开/公告日2019-04-02
原文格式PDF
申请/专利权人 唐山三友硅业有限责任公司;
申请/专利号CN201820972552.2
发明设计人 张书文;宋志广;周健;任海涛;满伟东;蔡冬利;马颖;郑星星;周磊;杨凤磊;陈立军;刘彬;韩东利;丁学志;胡志国;王东英;侯建伟;王健;张璐;刘卫咏;曲雪丽;
申请日2018-06-24
分类号
代理机构唐山永和专利商标事务所;
代理人张云和
地址 063305 河北省唐山市南堡开发区
入库时间 2022-08-22 08:39:14
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-02
授权
机译: 在衬底上形成包含硅和碳的层,包括将衬底引入反应器,引入碳前驱体,引入硅前驱体并使该前驱体反应
机译: 生产用于蚀刻半导体衬底的三氟化氯的设备包括等离子体反应器,用于在反应器内部形成等离子体的等离子体产生单元和用于将气体引入反应器的气体进料
机译:在卤素基等离子体中进行硅刻蚀时,反应器壁对等离子体化学性质和硅刻蚀产物密度的影响
机译:用于硅等离子体沉积的大型反应器的建模
机译:可扩展的硅微反应器,用于优先进行CO氧化:与管状填充床微反应器的性能比较
机译:用于无定形硅沉积的新型等离子体反应器原理,从而实现高效能量转换
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:用于硅-Pyrex玻璃微反应器的单片集成的扩散硅双区加热器用于生产纳米粒子:热交换方面
机译:低成本用于自然水体中有机物降解的反应器的构建和优化及其在伏安法研究铜形态中的应用低成本用于自然水体中有机物降解的反应器的构建和优化及其在水中的应用伏安法研究铜的形态
机译:外延反应器开发用于绝缘体上硅器件的生长