用于氮化镓和金刚石直接键合的生产设备

摘要

本实用新型公开了种用于氮化镓和金刚石直接键合的生产设备，该设备包括微波等离子体化学气相沉积设备、磁控溅射设备和加压设备，微波等离子体化学气相沉积设备和磁控溅射设备均与加压设备管路连接；微波等离子体化学气相沉积设备内用于预处理金刚石，磁控溅射设备内用于预处理氮化镓；加压设备包括一腔体，腔体内为真空状态，腔体的上下方均竖直设置有一加压装置；处理后的金刚石衬底和氮化镓衬底均通过管路送至腔体，腔体内用于处理后的金刚石和氮化镓键合；在键合的过程中，加压装置在竖直方向上对两者施加压力。适用于氮化镓和金刚石直接键合的条件，使制备过程一体化。