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一种用于等离子清洗效果监测自动化功能开发装置

摘要

本实用新型公开了一种用于等离子清洗效果监测自动化功能开发装置,包括基板,水滴测试仪,夹具,水滴测试仪控制电脑,电算系统,所述基板固定在所述夹具上,所述基板上方设置水滴测试仪,所述水滴测试仪与水滴测试仪控制电脑相连,所述水滴测试仪控制电脑与电算系统相连,本实用新型在测试等离子清洗效果中可以减少因人为失误导致的基板破损以及污染,并且其中电算系统可以对数据进行实时监测及报警,能够有效预防品质事故的发生。

著录项

  • 公开/公告号CN208224187U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 海太半导体(无锡)有限公司;

    申请/专利号CN201721787104.7

  • 发明设计人 顾瑞祥;

    申请日2017-12-20

  • 分类号

  • 代理机构无锡市朗高知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵华

  • 地址 214028 江苏省无锡市新吴区综合保税区K5,K6地块

  • 入库时间 2022-08-22 07:23:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-11

    授权

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