一种利用扩散反应法制备金属配合物单晶的培养装置

摘要

本实用新型属于金属配合物单晶制备装置技术领域，具体涉及一种利用扩散反应法制备金属配合物单晶的培养装置，包括底座，底座上安装有圆柱管，底座底部安装有水平调节装置，底座上开设有凹槽，圆柱管的底部套设有防滑套，圆柱管的底部镶嵌放置于凹槽内，圆柱管上端开口内置有第一磨口塞，圆柱管的下端、中端和上端分别安装有加液装置，加液装置包括透明的细管，细管的下端与圆柱管连通，细管上端为漏斗形状，细管上、位于漏斗形状下方处还安装有调节流量的旋转活塞。本实用新型能有效减缓上层溶液的加入对下层溶液产生的扰动，可形成良好的两相界面，同时可避免先加入的下层溶液在试管上端管壁残留，避免不同溶液提前接触，利于单晶生长。