公开/公告号CN207788622U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-08-31
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州新美光纳米科技有限公司;
申请/专利号CN201721748747.0
申请日2017-12-14
分类号
代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人吴开磊
地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城NW-20#107、108、109、110
入库时间 2022-08-22 06:09:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-31
授权
授权
机译: 化学机械抛光用的抛光垫,相同的制备方法和化学机械抛光的装置
机译: 抛光垫缓冲垫,具有使冷却空气通过缓冲垫循环到抛光垫的通道
机译: 化学机械抛光用的抛光垫,相同的制备方法和CMP的装置