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抛光用压力缓冲垫及抛光装置

摘要

本实用新型提供抛光用压力缓冲垫及抛光装置,涉及抛光技术领域。涉及抛光用压力缓冲垫,包括压力缓冲垫,压力缓冲垫一面设置有胶层,压力缓冲垫的另一面间隔设置有多个压力传导区域;压力缓冲垫通过胶层与抛光盘或抛光磨头固定。涉及抛光装置,设置有上述的抛光用压力缓冲垫,该压力缓冲垫可以与抛光盘粘贴,也可以与抛光磨头粘贴;压力缓冲垫设置在抛光盘与抛光磨头之间即可,用于两者之间的压力传导;待抛光晶圆设置在抛光盘下方的模板里。采用本实用新型的技术方案,可以贴在压力盘的背面,通过缓冲垫的厚度变化来分配上面承受的压力,使晶圆能够较为均匀的压在大盘上,从而使抛光顺利进行。

著录项

  • 公开/公告号CN207788622U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州新美光纳米科技有限公司;

    申请/专利号CN201721748747.0

  • 发明设计人 冯光建;夏秋良;

    申请日2017-12-14

  • 分类号

  • 代理机构北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人吴开磊

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城NW-20#107、108、109、110

  • 入库时间 2022-08-22 06:09:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-31

    授权

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