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一种大电流二次击穿高NPN型功率晶体管

摘要

本实用新型属于半导体器件的制造技术领域,涉及一种大电流二次击穿高NPN型功率晶体管,NPN型元胞单元包括N+型衬底、位于N+型衬底背面的金属层及位于N+型衬底正面的N‑型第一衬底子层,在N‑型第一衬底子层内设有P型基区,在P型基区上覆盖有基区金属层;在P型基区内设有N+发射区,在N+发射区上方盖有发射区金属层,其特征在于,N+型衬底为三重扩散结构;在N+型发射区四周设有N+型环;在P型基区的四周设有P+增压环9;N‑型第一衬底子层上方覆盖有绝缘介质层,绝缘介质层从下到上依次为磷硅玻璃、二氧化硅和氮化硅,绝缘介质层上方覆盖有聚酰亚胺钝化层;本实用新型通过优化器件结构,使其满足大电流、高电压输出,同时提高了二次击穿容量。

著录项

  • 公开/公告号CN207637804U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡固电半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN201721924923.1

  • 发明设计人 龚利汀;左勇强;易琼红;

    申请日2017-12-30

  • 分类号

  • 代理机构无锡市大为专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人曹祖良

  • 地址 214028 江苏省无锡市新吴区新梅路68号

  • 入库时间 2022-08-22 05:44:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-20

    授权

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