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一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置

摘要

本实用新型涉及一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置,包括槽体、槽体下部安装的支腿,其特征是:所述槽体的底面为锥底,在锥底的最低处开设有通孔,且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管;所述排泄管的下端口安装着端盖,且端盖与排泄管为螺纹连接;所述锥底底部的通孔配置有塞子,塞子包括手柄以及安装在手柄下端的固定头,且固定头上安装着塞子头;所述固定头与塞子头连接处的边缘设置有密封圈。在电镀过程中,落进电镀液中的残渣就会顺着锥状底滑入排泄管,使残渣自动汇聚,人们只需通过堵住排泄管上端口,打开排泄管下端口,残渣就会排出来,保证了电镀液的纯度,提高磁铁的电镀效果。

著录项

  • 公开/公告号CN207210573U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2018-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州永磁集团有限公司;

    申请/专利号CN201720969683.0

  • 发明设计人 程慧华;肖涛;冒守栋;曾许多;

    申请日2017-08-04

  • 分类号

  • 代理机构杭州融方专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人沈相权

  • 地址 311201 浙江省杭州市萧山区宁围永磁工业园区

  • 入库时间 2022-08-22 04:32:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-10

    授权

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