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公开/公告号CN206742197U
专利类型实用新型
公开/公告日2017-12-12
原文格式PDF
申请/专利权人 雷仲礼;
申请/专利号CN201720315036.8
发明设计人 雷仲礼;
申请日2017-03-28
分类号H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101);
代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人王宝筠
地址 美国加利福尼亚州米尔皮塔斯市乡村俱乐部路1594号
入库时间 2022-08-22 03:21:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-12
授权
机译: 基板翻转装置,基板搬运装置,基板处理装置,基板翻转方法,基板搬运方法及基板处理方法
机译: 基板翻转装置以及使用该基板翻转装置的面板制造装置
机译:基板处理系统及基板处理装置的专利授权
机译:Tat基板的ArtA依赖处理,该基板包含不位于C末端的保守三方结构。
机译:用于查找印刷基板的印刷基板5th印刷基板从蚀刻到绝缘膜
机译:基板消耗率和基板限制的非线性转染扩散反应方程中正交选择点有限元方法-2中基板消耗率和磁通量的计算
机译:两个流场的结构和动力学,用于粒子沉积到基板上和从基板上去除。
机译:Tat基板的ArtA依赖处理该基板包含不位于C末端的保守三方结构。
机译:生产高效的sers基板通过在聚苯乙烯珠模板上沉积金来生产高效的基板生产高品质的生产基板生产高效的生产基板
机译:基板介电常数和厚度对微波基板上单层,宽带,U型缝天线性能的影响