法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J37/05 授权公告日:20171201 终止日期:20190424 申请日:20170424
专利权的终止
2017-12-01
授权
授权
机译: 2.一种用于制备基板的方法,所述基板包括使用维恩滤光器分别沉积的两个或更多个带电金属簇的衬底
机译: 包含至少一种微粒子或纳米粒子矢量的至少一种阳离子聚合物和至少一种活性分子的组合物,及其在带电或惰性表面处理中的用途
机译: 一种带电极的离子束制造装置,用于使离子束电荷密度的二维分布及其基质制造方法。