公开/公告号CN205934012U
专利类型实用新型
公开/公告日2017-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司;
申请/专利号CN201620961698.8
申请日2016-08-26
分类号
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司;
代理人申健
地址 230011 安徽省合肥市新站区站前路99号南海大厦502室
入库时间 2022-08-22 02:09:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-02-08
授权
授权
机译: 用于通过磁控管的靶涂覆基板的反应磁控溅射,包括:将与磁控管相对的基板布置;通过溅射雾化靶材料;以及将溅射的靶材料沉积到基板上
机译: 磁靶和具有该靶的磁控溅射设备
机译: 磁控溅射设备具有平靶和近靶