首页> 中国专利> 一种双面抛光硅片抛光机

一种双面抛光硅片抛光机

摘要

本实用新型涉及一种双面抛光硅片抛光机。当前,企业在对硅片进行抛光加工时所采用的抛光机不具备双面抛光功能,对一块硅片抛光时需要进行两次,这就导致抛光效率降低,降低整体生产进度,存在不足。本实用新型涉及一种双面抛光硅片抛光机,其中:第一抛光轮设有第一抛光齿,第二电机与第二主动带轮同轴连接,第二主动带轮通过第二传动带与第二从动带轮连接,第二从动带轮与第二抛光轮固定连接,第二抛光轮设有第二抛光齿,机体与支架固定连接,支架与固定块固定连接,抛光液箱通过液管与喷头连通。本装置采用双面抛光的方式,一次加工可以同时对硅片的两面进行抛光,大大提高了抛光效率,降低生产成本。

著录项

  • 公开/公告号CN205904846U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西大杰新能源技术有限公司;

    申请/专利号CN201620670142.3

  • 发明设计人 支秉旭;

    申请日2016-06-30

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 335400 江西省鹰潭市贵溪市经济开发区

  • 入库时间 2022-08-22 02:06:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-20

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B29/02 授权公告日:20170125 终止日期:20170630 申请日:20160630

    专利权的终止

  • 2017-01-25

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号