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公开/公告号CN204621792U
专利类型实用新型
公开/公告日2015-09-09
原文格式PDF
申请/专利权人 广东工业大学;
申请/专利号CN201520219006.8
发明设计人 魏昕;袁文强;谢小柱;胡伟;宋乾;
申请日2015-04-02
分类号
代理机构
代理人
地址 510006 广东省广州市番禺区广州大学城外环西路100号
入库时间 2022-08-22 00:47:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-17
文件的公告送达 IPC(主分类):B24B37/34 收件人:袁文强 文件名称:缴费通知书 申请日:20150402
文件的公告送达
2015-09-09
授权
机译: 化学机械抛光装置,用于通过电机和光学系统的当前变化来检测抛光终点,或者检测抛光过程中的温度变化
机译: 气体夹带在化学机械抛光中的温度控制过程中的喷射过程中
机译:使用计算流体动力学预测化学机械抛光过程中界面现象的三维瞬态模型
机译:基体温度对化学机械抛光过程中Ge_2Sb_2Te_5薄膜表面性能的影响
机译:抛光垫温度对钨化学机械抛光的影响
机译:化学机械抛光抛光界面温度信号无线接收机和显示系统的设计
机译:研究介电二氧化硅的化学机械抛光(CMP)过程中的界面相互作用。
机译:不同涂层厚度的模-耳界面传热特性:旋流焓平衡装置过程中对料温度和微观结构的影响
机译:化学机械抛光中抛光接口温度信号无线接收与显示系统的设计
机译:碳化硅的化学机械抛光